W4 型全譜直讀光譜儀的工作原理基于原子或離子的能級躍遷。當處于基態(tài)的原子或離子吸收外界能量躍遷到激發(fā)態(tài)后，又會在極短時間內返回基態(tài)，并釋放出特定波長的光。這些光經(jīng)過光柵分光，形成按波長順序排列的原子光譜。儀器通過識別元素的特征光譜進行定性分析，依據(jù)光的強度實現(xiàn)定量分析。激發(fā)臺中電極與金屬樣本在激發(fā)時產(chǎn)生的電火花發(fā)出的光，經(jīng)入射狹縫進入光室，光柵分光后，不同波長的光照射到 CMOS 傳感器上，傳感器將光信號轉化為電信號，再傳輸給計算機處理，最終得出分析結果。
技術參數(shù)，性能優(yōu)越
*檢測基體：Fe 基，專注服務于鐵基材料的精準檢測。
*光學系統(tǒng)：采用帕型 - 龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)，波長范圍 165 - 580nm，可擴展，搭配高分辨率多 CCD 或 CMOS 圖像傳感器，確保對不同元素的光信號都能精準捕捉。
*光源類型：DDD 數(shù)字激發(fā)光源，配備高能預燃技術（HEPS），放電頻率 100 - 1000Hz，放電電流最大 400A，可根據(jù)不同樣品和元素需求靈活調整激發(fā)參數(shù)，滿足多樣化的激發(fā)要求。
*檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般在 25s 左右，快速高效，大幅縮短檢測周期，提升工作效率。
*真空系統(tǒng)：軟件自動控制、監(jiān)測，保障光學系統(tǒng)的穩(wěn)定運行，同時雙級設置在儀器不運行時可開啟待機真空運行狀態(tài)，多級真空隔離措施及濾油裝置，全方位守護光學元器件。
分析范圍廣，元素一網(wǎng)打盡
該儀器元素分析范圍涵蓋從低含量到高含量的多種元素，具體元素配置可根據(jù)國家標準樣實際元素進行設定，無論是常見的金屬元素還是稀有元素，都能在其檢測范圍內輕松應對，滿足不同行業(yè)對金屬材料元素分析的廣泛需求。
技術特點，亮點紛呈
*性能優(yōu)越的光學系統(tǒng)：帕邢 - 龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足全元素檢測需求；直射式光學技術及 MgF 材料光學器件，保障紫外區(qū)域最佳性能；高分辨率多 CMOS 讀出系統(tǒng)，具備更低暗電流、更好檢出限、更高穩(wěn)定性和更強靈敏度。
*大能量的數(shù)字激發(fā)光源：全數(shù)字化智能復合光源 DDD 技術，帶來卓越分析性能；緊湊設計及半導體控制技術，提升光源的穩(wěn)定性與可靠性；高能預燃技術（HEPS) 支持激發(fā)參數(shù)調整，適配不同基體、樣品及分析元素。
*人性化的樣品激發(fā)臺設計：激發(fā)臺直接導入激發(fā)光至光學系統(tǒng)，開放式樣品臺滿足大樣品測試，變換電極還能對小樣品及復雜幾何形狀樣品進行精準分析。
*簡潔的氬氣流設計：智能氬氣流設計搭配粉塵收集清理裝置，獨特的氬氣噴射技術消除等離子體飄移，確保檢測器觀測高溫區(qū)域光信號，提高精度和穩(wěn)定性；激發(fā)后脈沖式氬氣吹掃，提升粉塵去除效果。
*全智能的真空測量和控制：真空系統(tǒng)全程程序控制，減少真空泵運行時間，雙級設置有待機真空運行狀態(tài)，多級隔離及濾油裝置，保障光學元器件在可靠環(huán)境中工作。
*方便快捷的透鏡清理裝置：一體化真空球閥、單板式透鏡設計、交叉機械裝置，讓透鏡清理方便快捷且有效保護光學系統(tǒng)。
*云計算及讀出系統(tǒng)：計算機與手機或 PAD 同步顯示，方便操作；高分辨率多 CMOS 讀出系統(tǒng)聯(lián)合 FPGA、DSP 和 ARM 技術，數(shù)據(jù)采集高效；以太網(wǎng)和 TCP/IP 協(xié)議實現(xiàn)高速可靠數(shù)據(jù)傳輸，支持數(shù)據(jù)遠程傳輸與網(wǎng)絡化管理，還能云打印。
*專用的光譜分析軟件：按照國際光譜儀制作標準打造，操作界面人性化，功能標準化，配備多條工廠校正曲線及多材質分析方法和解決方案，用戶還可現(xiàn)場延長標準曲線測量上下限。
*儀器及軟件運算功能強大：具備自動光路校準、低氬氣消耗、通用可調樣品適配器、基體擴展功能、標準化參數(shù)修改、控樣修正功能等，同時擁有更安全便捷的設計，結果實時顯示，可定制打印報告，軟件快速診斷，工廠校準功能可靠。
核心零部件，品質之源
從德國進口的光柵、透鏡、反射鏡等關鍵零部件，到日本的線陣 CCD、濾波器，美國的入縫、光纖等，再加上加拿大壓力傳感器以及金義博自主研發(fā)的數(shù)字光源、調節(jié)閥、CCD 采集板等，眾多高品質核心零部件匯聚一身，為 W4 型全譜直讀光譜儀的卓越性能奠定了堅實基礎。
安裝及驗收，貼心指引
*安裝環(huán)境：儀器需置于專用實驗室，面積超 10 平方米，遠離有害、易燃、腐蝕性氣體，工作溫度 10℃～30℃且波動小，存儲溫度 0℃～45℃，相對濕度 20%～80%，配備溫控裝置的分光室，保障在規(guī)定環(huán)境下的正常運行。
*電源要求：單相 220±20V、1KVA 電源供電，建議配備穩(wěn)壓器，使用保護性接地的單相電源且接地良好。
*氬氣要求：純度≥99.999%，含氧量≤2ppm，含水量≤5ppm，控制使用流量和壓力，采用隨機提供的氬氣連接管。
*排氣瓶：廢氣排入過濾瓶，需及時清理更換。
*樣品制備：鋁基、銅基等有色金屬樣品用專用車床制備，鐵基樣品用專用磨樣機和落地式砂輪機制備，切割機處理不適樣品，確保樣品均勻、無缺陷、表面平滑等。
*標準樣品：隨機附贈一塊光譜校正標準樣品，用戶還需準備適合的標準或內控樣品用于分析曲線校正。
*PC 和打印機：配備常規(guī)配置 PC 和打印機，用于安裝軟件和打印報表。
售后服務，全程護航
*技術資料與軟件：提供驅動及應用軟件安裝光盤、用戶手冊、日常維護單頁等。
*培訓：安裝工程師現(xiàn)場培訓，讓用戶掌握操作與維護，后續(xù)還舉辦技術培訓班。
*售后維修：保修期按合同，一般為驗收后 12 個月，保修期內正常使用故障免費維修，非正常使用損壞收取成本費和維修費；保修期外繼續(xù)提供維修和咨詢服務，現(xiàn)場服務適當收費；備件及消耗品以優(yōu)惠價格供應。